Intel steigt auf neues Produktionsverfahren um

Montag, 14. September 2009 um 10:34
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SANTA CLARA (IT-Times) - Der US-Halbleiterkonzern Intel Corp (Nasdaq: INTC, WKN: 855681) gibt weiter Gas und will seinen Produktionsprozess vollständig auf das neue 32-Nanometer-Verfahren umstellen.

Die 32-Nanometer-Prozesstechnik soll nunmehr Einzug in mehrere Fabriken halten. Wie der Branchendienst VentureBeat berichtet, will Intel 7,0 Mrd. US-Dollar investieren, um seine bestehenden Chip-Fabriken auf 32-Nanometer-Technik umzusrüsten. Laut Intel-Manager Sanjay Natarajan will Intel damit seinen Technikvorsprung von ein bis zwei Jahren konservieren.

Durch das neue 32-Nanometer-Verfahren lassen sich mehr Chips auf einem Wafer unterbringen. Dadurch kann das Unternehmen seine Herstellungskosten pro Chip weiter drücken und damit deutlich günstiger produzieren, als andere Rivalen. Durch das neue Herstellungsverfahren können Milliarden von Transistoren auf einem Chip untergebracht werden, womit die Leistungsfähigkeit der Chips um 22 Prozent zulegen soll. Damit soll auch gleichzeitig eine deutliche Reduktion des Stromverbrauchs einhergehen, verspricht Intel-Manager Natarajan. Durch die neuen Chips sollen Elektronikgeräte nicht nur deutlich leistungsfähiger sein, sondern auch die Akkus schonen, so der Intel-Manager.

Meldung gespeichert unter: Intel, Halbleiter

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