ASML gibt Details zur Cymer-Übernahme bekannt
Extreme Ultraviolet (EUV) Semiconductor Lithography Technologie
Freitag, 14. Dezember 2012 um 12:17
Das Chipproduzent ASML will gemeinsam mit dem US-Unternehmen Cymer an der Entwicklung und Produktion einer sogenannten Extreme Ultraviolet (EUV) Semiconductor Lithography Technologie arbeiten. EUV-Technologie soll es Herstellern künftig ermöglichen, Chips mit mehr Funktionen auszustatten und gleichzeitig die Produktionskosten zu senken. Außerdem seien die EUV-Chips deutlich energieeffizienter. (pst/rem)
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Meldung gespeichert unter: ASML Holding, Halbleiter
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