Aixtron: In vielen Zukunftstechnologien zu Hause

Mittwoch, 3. September 2008 15:16
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(IT-TIMES) Die Aachener Aixtron AG (WKN: 506620) konnte in den vergangenen Wochen und Monaten bedeutsame neue Aufträge sichern. Vor allem in Asien scheint sich das Unternehmen dabei gut aufzustellen. So hat das chinesische Unternehmen Century Epitech Corp. erst in dieser Woche mehrere MOCVD-Anlagen bestellt. Century Epitech mit Sitz in Shenzhen ist ein Hersteller ultraheller LEDs in China. Der jüngste Auftrag beinhaltet drei AIX 2600G3 MOCVD-Anlagen - eine in einer Konfiguration von 24x2 Zoll-Wafern, zwei mit je 49x2 Zoll-Wafern sowie eine AIX 2800G4 HT-Anlage mit einer Kapazität von 42x2 Zoll-Wafern.

Aufträge aus Asien

Auch in Japan konnte jüngst ein Auftrag gesichert werden. Der deutsche Hersteller von Anlagen zur Halbleiterfertigung soll in diesem Zusammenhang eine entsprechende Fertigungseinrichtung aus dem Bereich Verbindungshalbleiter liefern. So erstellt Aixtron für den japanischen Kunden Showa Denkor eine sogenannte Hot-Wall Planetenanlage. Diese wird zur Fertigung von SiC-Wafern verwendet und hat eine Kapazität von 6x100 mm. Showa Denkor will durch die neue Anlage den Produktionsstandort in Japan für sogenannte Verbindungshalbleiter (SiC) weiter ausbauen.

Auch das taiwanesische Unternehmen SuperNova hatte zu einem früheren Zeitpunkt eine weitere Anlage geordert. Es handelte sich dabei um ein Crius-Modell für 31x2 Zoll-Wafer. SuperNova stellt LEDs her und greift dabei schon länger auf Anlagen von Aixtron zurück. Die Installation sowie die Inbetriebnahme werden von Aixtron abgewickelt.

In Korea orderte die Korea Advanced Nano Fab Center (KANC) ein Planetary Reactor System für den Solarbereich von Aixtron. KANC nutzt das System für die Entwicklung von III-V Solarzellen. In diesem Zusammenhang wurde auch ein Kooperationsprogramm zwischen KANC und Aixtron geschaffen. Damit gelingt es Aixtron, wie auch schon mit den Kunden Showa Denkor und SuperNova, langfristig angelegte Kundenbeziehungen zu etablieren.

Portrait

Die Aixtron AG ist Anbieter von Depositions-Anlagen für die Halbleiter-Industrie. Die Produkte der Gesellschaft werden zur Herstellung von Bauelementen für elektronische und opto-elektronische Anwendungen auf Basis von Verbindungs-, Silizium- und organischen Halbleitermaterialien sowie Kohlenstoff-Nanostrukturen genutzt. Diese Bauelemente werden in der Displaytechnik, der Signal- und Lichttechnik, bei Glasfaser-Kommunikationsnetzen, drahtlosen und mobilen Telefonie-Anwendungen, der optischen und elektronischen Datenspeicherung, der Computer-Technik sowie einer Reihe anderer High-Tech-Anwendungen eingesetzt.

Aixtron wurde im Jahr 1983 gegründet. Seinerzeit begann das Unternehmen mit der Entwicklung von Anlagen zur Fertigung von Verbindungshalbleitern. Heute ist Aixtron der weltweit führende Anbieter von Anlagen zur Herstellung von Verbindungshalbleitermaterialien. Nach eigenen Angaben konzentriert man sich dabei auf drei Märkte: Verbindungs-, Silizium und organische Halbleitermaterialien.

Verbindungshalbleiter kommen in Leuchtdioden oder in Lasern zum Einsatz. Dazu zählen auch neue Anwendungsmöglichkeiten wie die Blir-Ray-DVD-Technologie. Zudem kommen diese Halbleiter in der Solarzellentechnologie zum Einsatz. Silizium-Halbleiter kommen zum Beispiel in Speicher-Bausteinen zum Einsatz oder sind Bestandteil von DRAM-Speicherchips. Organische Halbleiter wiederum finden sich in Flachbildschirmen und in flexiblen Displays wider. Zudem können sie in Anwendungen wie RFID-Chips eingesetzt werden.

1999 wurde die Thomas Swan Scientific Equipment Division, das gesamte MOCVD-Anlagen- und Servicegeschäft der englischen Thomas Swan & Co Ltd., übernommen und wird bis heute als eigenständige Tochtergesellschaft im Aixtron-Konzern weitergeführt.

Im gleichen Jahr wurde die schwedische Epigress AB, heute Aixtron AB, mit Sitz in Lund, Schweden übernommen. Die Tochtergesellschaft stellt CVD-Anlagen zur Herstellung von Verbindungshalbleitern wie Siliziumcarbid (SiC) mit breiter Bandlücke her. Durch die Übernahme der Genus Inc. in Kalifornien im März 2005 hat Aixtron eine weitere produktionsqualifizierte Abscheidungstechnologie für die Silizium-Halbleiter- und die Datenspeicherindustrie erworben. Durch den Zukauf verfügt Aixtron über ein breites Spektrum an massenproduktionstauglicher Abscheidungstechnologien für die Siliziumindustrie.

Mit der Übernahme der britischen Nanoinstruments Ltd. vor rund einem Jahr erweiterte Aixtron das Produktportfolio im Bereich Nanotechnologie. Aixtron-Nanoinstruments bietet seither CVD - (Gasphasenabscheidung) und plasmagestützte CVD-Anlagen zur Abscheidung von Carbon Nanotubes, Nanowires und Nanotubes an.

Zahlen

Meldung gespeichert unter: Aixtron

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