Bundeskartellamt gibt grünes Licht für Beteiligung von ASML an Carl Zeiss
Halbleiterausrüstung
Im November letzten Jahres hatten ASML und Carl Zeiss bereits eine engere Zusammenarbeit angekündigt. Ziel der Vereinbarung ist es, die Entwicklung einer zukünftigen Generation der Extreme Ultraviolet (EUV) - Lithographie-Systeme zu beschleunigen.
Die Technologie soll die Halbleiterindustrie in die Lage versetzen, zu Beginn der nächsten Dekade wesentlich leistungsfähigere Mikrochips zu geringeren Kosten produzieren zu können. (lsc/rem)
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