Bundeskartellamt gibt grünes Licht für Beteiligung von ASML an Carl Zeiss

Halbleiterausrüstung

Dienstag, 31. Januar 2017 um 12:29

Im November letzten Jahres hatten ASML und Carl Zeiss bereits eine engere Zusammenarbeit angekündigt. Ziel der Vereinbarung ist es, die Entwicklung einer zukünftigen Generation der Extreme Ultraviolet (EUV) - Lithographie-Systeme zu beschleunigen.

Die Technologie soll die Halbleiterindustrie in die Lage versetzen, zu Beginn der nächsten Dekade wesentlich leistungsfähigere Mikrochips zu geringeren Kosten produzieren zu können. (lsc/rem)

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