Applied Materials meldet Durchbruch bei neuen Chip-Herstellungsverfahren

Mittwoch, 30. November 2011 09:46
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SANTA CLARA (IT-Times) - Der US-Halbleiterausrüster Applied Materials hat eigenen Angaben zufolge einen Durchbruch bei neuen Halbleiterfertigungsanlagen erzielt. Dadurch sollen Chips mit deutlich geringeren Stromverbrauchswerten hergestellt werden können.

Dies soll über das neue Applied Producer Onyx Film Treatment System erreicht werden. Chips der neuen Generation verfügen über unzählige mikroskopisch kleine Elektronenbahnen. Das neue Onyx-Systems sorgt dafür, dass diese Leiter in noch kleineren Dimensionen gebaut werden können. Dadurch sollen noch effektivere Chips hervorgehen, die deutlich weniger Strom verbrauchen.

Meldung gespeichert unter: Applied Materials

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