Applied Materials bringt neue Lithographie-Technik

Montag, 1. Dezember 2008 09:45
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SANTA CLARA - Der weltweit führende Halbleiterausrüster Applied Materials (Nasdaq: AMAT, WKN: 865177) hat mit der Applied Aera2 eine neue Technik für Lithographie-Systeme vorgestellt, die Firmen dabei helfen soll, die Produktivität ihrer Lithographie-Systeme zu erhöhen.

Dabei kommt die von Applied entwickelte IntenCD-Technik zum Einsatz, womit Halbleiterhersteller die sogenannte Critical Dimension Uniformity (CDU) um 20 Prozent verbessern können. Darüber hinaus soll der Einsatz von Aera2 auch die Lebenszeit von Fotomasken erhöhen können. Durch eine längere Lebenszeit erhöht sich damit auch die Produktivität von Lithographie-Anlagen.

Meldung gespeichert unter: Applied Materials

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