Applied Materials bringt neue Lithographie-Technik

Die in der Aera2-Plattform enthaltene IntenCD-Technik ersetzt Wafer-basierte Messmethoden mit sogenannten IntenCD-Karten, womit eine deutliche Zeitersparnis einhergehen soll. Zudem sollen dadurch kumulative Fehler bei weiteren Prozessschritten weiter minimiert werden. Inspektionen für Photomasken in der Halbleiterindustrie sind vergleichsweise teuer, wobei eine einzelne Maske mehr als 100.000 US-Dollar kosten kann, so Applied.

Bedingt durch die weltweit sinkende Nachfrage nach Halbleiterausrüstung musste Applied zuletzt einen Gewinneinbruch hinnehmen. Daraufhin kündigte das Unternehmen Mitte November den Abbau von 1.800 Stellen bis Ende des laufenden Fiskaljahres 2009 an und streicht damit 12 Prozent seiner weltweiten Arbeitsplätze. Durch den Jobabbau erhofft sich Applied Einsparungen von 400 Mio. Dollar. (ami)