TSMC erwirbt Lithographie-System von ASML

Montag, 22. Februar 2010 um 11:54

TSMC werde TWINSCAN NXE:3100 für den Bereich Forschung und Entwicklung verwenden, sagte Dr. Shang-yi Chiang, TSMC’s Vizepräsident im Bereich Research & Development. EUV sei eine der Zukunftstechnologien, die TSMC untersuche. Die Arbeit mit diesem System unterstreiche gleichzeitig das langjährige Engagement bei der Untersuchung von europäischen Halbleiterprodukten. Dabei trage ASML zur fortschrittlichen Entwicklung bei.

ASML ist ein niederländisches Unternehmen, das lithografische Systeme für Chiphersteller fertigt. Diese kommen sowohl bei Halbleiterprodukten als auch bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen zur Anwendung. Derzeit beschäftigt das Unternehmen rund 6.500 Mitarbeiter und bedient nach eigenen Angaben Kunden in 15 Ländern. (mer/kat/ami)

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