Süss MicroTec liefert Mask Aligner an GenISys

Dienstag, 21. Februar 2012 11:50
Süss MicroTec

GARCHING (IT-Times) - Süss MicroTec erhält Auftrag aus dem Bereich Nanotechnologie. Dabei kommen die Mask Aligner von Süss bei einer Lithografie-Simulationssoftware zum Einsatz.

Süss MicroTec gab heute in einer Pressemitteilung bekannt, von der GenISys GmbH, Hersteller von Softwareprodukten im Bereich Nanotechnologie, einen Auftrag bekommen zu haben. Dabei geht es um die Zusammenarbeit bei der Lithografie-Simulationssoftware Layout-Lab von GenISys mit Mask Alignern von Süss MicroTec. Layout-Lab ist eine 3D Simulationsplattform für optische Proximity Lithografie.

Meldung gespeichert unter: Süss MicroTec

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