Neuer Auftrag für Aixtron

Montag, 10. Juli 2006 00:00

AACHEN - Die Aixtron AG (WKN: 506620<AIX.FSE>), Anbieter von Depositions-Anlagen für die internationale Halbleiterindustrie, hat den Auftrag eines asiatischen Herstellers für Speicherbausteine für die erste Anlage bekannt gegeben, in der die Genus, eine Tochtergesellschaft der Aixtron AG, 300 mm StrataGem Atomic Layer Deposition (ALD) und Atomic Vapor Deposition (AVD) Technologien kombiniert.

Aixtron wertet diesen Auftrag als einen entscheidenden Schritt für die nächste Generation von Systemlösungen für die Massenproduktion von High-K Dielektrika in DRAM-Kondensatoren unter 45nm. Die Anlage soll im dritten Quartal dieses Jahres installiert werden, der Umsatz wird im vierten Quartal gebucht. Nähere finanzielle Details wurden derweil nicht bekannt gegeben. Auch der Name des Neukunden bleibt bislang ungenannt

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