ASML kooperiert mit Tokyo Electron bei Next-Generation Chiptechnologien

Mittwoch, 30. November 2011 um 11:09

EUV eignet sich bestens für 20nm-Chips und alle kleineren, ArF Immersion ist und bleibt eine Mainstram-Technologie für Kritiker von innovativer Chip-Produktion. Um diese doppelte Entwicklung voranzutreiben, statten die beiden Unternehmen ihre Standorte im japanischen Kumamoto und im niederländischen Veldhoven mit entsprechendem Equipment aus. (lsc/rem)

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