Aixtron erzielt Meilenstein für Siliziumhalbleiter - Produktion

Nach eigenen Angaben habe ein großer Speicherchiphersteller die ALD-Produktionsanlage QXP-8300 von Aixtron qualifiziert. Die Anlage ermöglicht die  Atomlagenabscheidung (Atomic Layer Deposition).

So können präzise Schichten dielektrischer, metallischer und nichtflüchtiger Speichermaterialien getrennt werden. Derartige Technologien sind für den Einsatz bei Halbleitern interessant, da Halbleiterspeicherzellen immer kleiner werden.

Mit der Aixtron-Anlage können insbesondere High-K-Oxidfilme hergestellt werden, wo Speicheranwendungen wie dreidimensionalen Bauelementstrukturen zum Einsatz kommen.