Aixtron erhält Auftrag vom Fraunhofer Institut
Depositionsanlagen
HERZOGENRATH (IT-Times) - Das deutsche Unternehmen Aixtron hat eine Kooperation mit der Fraunhofer IISB bekannt gegeben. Durch die Partnerschaft soll die Siliziumkarbid-Produktionstechnologie entwickelt werden.
Der Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie Aixtron hat laut einer heutigen Pressemitteilung eine Partnerschaft mit dem Forschungsinstitut Fraunhofer IISB vereinbart. In der Übereinkunft geht es primär um die Entwicklung von Epitaxie-Prozessen auf 150 mm-Siliziumkarbid-Wafern. Im Rahmen dieser Kooperation kommt die neue G5WW-Anlage von Aixtron zum Einsatz. Im vierten Quartal in 2014 wird der Planetenreaktor in einem Labor am IISB installiert. Die G5WW-Anlage soll laut Dr. Jochen Friedrich, Leiter der Abteilung Materialien am Fraunhofer IISB, für die Prozessoptimierung sowie zu Demonstrationszwecken verwendet werden.
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Meldung gespeichert unter: Aixtron, Halbleiter
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